納米集成電路製造工藝（第2版）
張汝京
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¥62.3定價
張汝京
本書共19章，涵蓋先進集成電路工藝的發展史，集成電路製造流程、介電薄膜、金屬化、光刻、刻蝕、表面清潔與溼法刻蝕、摻雜、化學機械平坦化，器件參數與工藝相關性，DFM（Design for Manufacturing），集成電路檢測與分析、集成電路的可靠性，生產控制，良率提升，芯片測試與芯片封裝等內容。 再版時加強了半導體器件方面的內容，增加了先進的FinFET、3D NAND存儲器、CMOS圖像傳感器以及無結場效應晶體管器件與工藝等內容。
衝着張汝京張總的半導體行業頂級履歷來的，作者班底也大多來自中芯國際，所以實操性非常強，對各種工藝參數、窗口及相關性的介紹也極其細緻，只不過如果配圖的英文翻譯下就更好了。整體而言不是入門書籍，更像是爲進階而撰寫的。於我自身而言，最強的讀後感便是要惡補光學知識，也再次感嘆蔡司和ASML的強大與細膩：）
有幸讀到此書，在此特別感謝每一章的作者，他們將所知道的最新技術和他們實際工作的經驗，盡力地在書中向我們科技界的朋友們一一闡述，也感謝他們爲發展祖國的集成電路科技和協助提升同行朋友們的工藝水平做出的貢獻！感謝各位大佬
啃了一遍，跳過了太技術細節的部分。真是隔行如隔山，芯片知識膨脹得太快了。整體看下來確實最有技術含量的就是光刻部分，其他部分還算好理解。
對於非IC專業的讀者來說讀起來比較喫力，如果只是作爲簡單瞭解CMOS相關原理及工藝的可以“淺嘗輒止”，沒必要對模型及公式深入研究，跳過即可。 另外參考文獻佔了大量篇幅，analog和logic電路對應的飽和區和線性區貌似反了…
這屬於是晉級版本，不適合初學者
感覺扎維德可能更好點，有點不上不下，業外的人覺得深，業內的人倒覺得淺，真正核心的eda和10nm以下工藝並沒有介紹。很多東西都是很概念性質的泛泛而談，實際工作中又是另一回事了。總之這本不是很推薦，如果心情好的話讀一讀倒也不是不行。
雖然不知道此書產生的實際背景，但是瀏覽之後發現確實是一本難得的好書。從前道製造工藝入手，進而涵蓋半導體測試和封裝。確實是良心之作。
神書📚，領先大學教科書n個數量級
真的有人能看完嗎，非電子專業看着頭痛。。
在20世紀40年代，貝爾實驗室的科學先賢們發明了晶體管；到了20世紀50年代，德州儀器公司和仙童公司的科技大師們分別發明並推展了集成電器的生產技術；